Zirconium Oxide ZrO₂ |Hafnium Oxide HfO₂ 99.9%

ລາຍລະອຽດ

Zirconium Oxide ZrO₂, ຫຼື Zirconium Dioxide, ປະຕິບັດບໍ່ໄດ້ລະລາຍໃນນ້ໍາ, ແລະລະລາຍເລັກນ້ອຍໃນ HCl ແລະ HNO₃ຈຸດລະລາຍ 2700°C, ຄວາມໜາແໜ້ນ 5.85g/ຊມ³, ເປັນໄປເຊຍກັນ odorless ມີຈຸດ melting ສູງ, ຄວາມຕ້ານທານສູງ, ດັດຊະນີ refractive ສູງແລະຄຸນສົມບັດສໍາປະສິດການຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນຕ່ໍາ, ເປັນວັດສະດຸທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງທີ່ສໍາຄັນ, ວັດສະດຸ insulating ceramic, sunscreens ceramic ແລະວັດຖຸດິບສໍາລັບແກ້ວປະເສີດປອມ.ZrO₂ແມ່ນສິນຄ້າທົ່ວໄປຄວນເກັບຮັກສາໄວ້ໃນບ່ອນເຢັນ, ແຫ້ງແລະລະບາຍອາກາດໄດ້ດີ, ຮັກສາຖັງປິດໃຫ້ແໜ້ນ ແລະ ຫ່າງຈາກທາດດ່າງທີ່ເຂັ້ມແຂງ.Zirconium Oxide ZrO₂ຖືກນໍາໃຊ້ທົ່ວໄປສໍາລັບການເຮັດໂລຫະ zirconium ແລະທາດປະສົມ zirconium, ceramics ຄວາມຖີ່ສູງ, ອຸປະກອນການຂັດ, ເມັດສີເຊລາມິກ, ອຸປະກອນການ refractory ແລະແກ້ວ optical.

ການຈັດສົ່ງ

Zirconium Oxide ຫຼື Zirconium Dioxide ZrO₂ດ້ວຍຄວາມບໍລິສຸດຂອງ ZrO₂+HfO₂≥ 99.9% ແລະ Hafnium Oxide HfO₂ດ້ວຍຄວາມບໍລິສຸດຂອງ HfO₂+ZrO₂≥99.9% ທີ່ Western Minmetals (SC) Corporation ສາມາດຈັດສົ່ງໄດ້ໃນຂະຫນາດຂອງຝຸ່ນ 60-150mesh, 25kg ໃນຖົງຢາງທີ່ມີ drum cardboard ພາຍນອກ, ຫຼືເປັນຂໍ້ກໍານົດທີ່ກໍາຫນົດເອງ.

ສອບຖາມໄດ້

ລາຍລະອຽດ

ປ້າຍກຳກັບ

ຂໍ້ມູນຈໍາເພາະ

ZrO₂& HfO₂

Zirconium Oxide ຫຼື Zirconium Dioxide ZrO₂ ດ້ວຍຄວາມບໍລິສຸດຂອງ ZrO₂+HfO₂≥ 99.9% ແລະ Hafnium Oxide HfO₂ດ້ວຍຄວາມບໍລິສຸດຂອງ HfO₂+ZrO₂≥99.9% ທີ່ Western Minmetals (SC) Corporation ສາມາດຈັດສົ່ງໄດ້ໃນຂະຫນາດຂອງຝຸ່ນ 60-150mesh, 25kg ໃນຖົງຢາງທີ່ມີ drum cardboard ພາຍນອກ, ຫຼືເປັນຂໍ້ກໍານົດທີ່ກໍາຫນົດເອງ.

ລາຍການ	HfO₂	ZrO₂
ຮູບລັກສະນະ	ຜົງຂາວ	ຜົງຂາວ
ນ້ຳໜັກໂມເລກຸນ	210.49	123.22
ຄວາມຫນາແຫນ້ນ	9.68 g/ຊມ³	5.85 g/ຊມ³
ຈຸດລະລາຍ	2758 ອົງສາ	2700 ອົງສາ
CAS No.	12055-23-1	1314-23-4

ບໍ່.	ລາຍການ			ມາດຕະຖານສະເພາະ
1	ຄວາມບໍລິສຸດ			ຄວາມບໍ່ສະອາດ (PCT Max ແຕ່ລະອັນ)	ຂະໜາດ
2	ZrO2	ZrO₂+HfO₂≥	99.9%	Si 0.01, Fe 0.001, Ti/Na 0.002, U/Th 0.005	60-150 ຕາຫນ່າງ
3	HfO2	HfO₂+ZrO₂≥	99.9%	Fe/Si 0.002, Mg/Pb/Mo 0.001, Ca/Al/Ni 0.003, Ti 0.007, Cr 0.005	100 ຕາຫນ່າງ
4	ການຫຸ້ມຫໍ່			25kgs ໃນຖົງຢາງທີ່ມີ cardboard drum ພາຍນອກ

Hafnium Oxide HfO₂, ຫຼື Hafnium Dioxide, ທາດປະສົມຂອງ hafnium, HfO₂+ZrO₂≥99.9%, ຈຸດລະລາຍ 2758°C, ຄວາມໜາແໜ້ນ 9.68g/cm³, ແມ່ນ insoluble ໃນນ້ໍາ, HCl ແລະ HNO₃, ແຕ່ລະລາຍໃນ H₂SO₄ແລະ HF.Hafnium Oxide HfO₂ເປັນວັດສະດຸເຊລາມິກທີ່ມີຊ່ອງຫວ່າງວົງກວ້າງແລະຄົງທີ່ dielectric ສູງ.Hafnium Oxide HfO₂ແມ່ນແນວໂນ້ມທີ່ສຸດທີ່ຈະທົດແທນ silica insulator ປະຕູຮົ້ວຂອງໂລຫະ oxide semiconductor field tube ເພື່ອແກ້ໄຂບັນຫາການຈໍາກັດຂະຫນາດຂອງການພັດທະນາໂຄງສ້າງ SiO₂ / Si ແບບດັ້ງເດີມໃນ MOSFET, ສະນັ້ນມັນເປັນວັດສະດຸທີ່ກ້າວຫນ້າທີ່ໃຊ້ໃນພາກສະຫນາມຈຸນລະພາກ.ມັນຍັງຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງສໍາລັບການເຮັດໂລຫະ hafnium, ທາດປະສົມ hafnium, ອຸປະກອນການ refractory, ອຸປະກອນການເຄືອບຕ້ານ radioactive, ແລະ catalyst.